SANYU电子株式会社  

RF溅射装置SVC-700RFI薄膜制作设备

特点:

小型紧凑尺寸

简便操作

不必说金属薄膜,最适合绝缘膜和抗氧化膜制作

小型的装备和选择性

 

溅射阴极

水冷式磁控管

φ2英寸×1

溅射方向

下降

RF电源

200W 13.56MHz
手动BOX

チャンバー部

φ160mm×H311mm(給電部含) SUS
水冷管付/水冷管

真空泵

DP200l/sec RP20l/min
TMP
67l/sec(@N2) RP20l/min (选择)

到达压力


圧力测定

ピラニー真空计

气体导入机构

质量流量控制器 Ar30sccm

尺寸、重量(本体)

W787/D400/H859mm 約80kg


高度及重量根据构成变动。

所要电源

单相100V 50/60Hz 15A

 

选择项:

基板加热单元(300/ 600/ 1000℃的类型)

基板冷却单元

基板旋转倾斜单元

电离真空计

水晶振动子式膜厚监视器

追加气体导入机构

 

RF溅射装置SVC-700RFII薄膜制作设备

特点:

薄膜、氧化物膜制作

充实的装备和选择性

卓越的RF磁控溅射

根据基板和溅射目标的尺寸,准备了两种类型

 


SVC-700RFⅡ Type-Ⅰ

SVC-700RFⅡ Type-Ⅱ

溅射阴极

水冷式磁控管
φ2
インチ×3
φ4
インチ×1

水冷式磁控管

φ2インチ×3
φ4
インチ×2
φ6
インチ×1

溅射方向

向上

RF电源

300W 13.56MHz

手动BOX

チャンバー部

φ230mm×H200mm SUS
水冷管付/水冷管

φ320mm×H325mm SUS
水冷管付/水冷管

真空泵

TMP260l/sec(@N2) RP100l/min

到达压力

10-5 Pa 台

圧力测定

ピラニー真空計/电离真空计

气体导入机构

质量流量控制器Ar30sccm

尺寸・重量

本体:W744/D595/H1046mm 約140kg(RP別置)
制御盤:W570/D800/H1428mm 約115


本体/控制盘的高度及重量,根据构成变动。

所要电源

単相100V 50/60Hz 3kVA

资料.docx

SVC-700RMSG.pngSVC-700RFII.pngSVC-700RFI.pngSVC-700LEB.pngSVC-700EB.pngSVC-700.pngSV-7070.pngSUP-7707.pngSS-7200.pngSPG-724.pngSDM-7501II.pngSC-MC.pngSC-708.pngSC-701MKII.pngSC-701MKI.pngSC-701MC.pngSC-701HMCII.pngSC-701CT.pngSC-701AT.pngACE-7000EBL.png101.png3.png2.png1.png检出器.png基本构成.png大气压.pngSVM-721.pngSVC-700TMSG.png

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